SCI DIORANE a été créé le 28/12/1982 (il y a 41 ans) avec forme juridique Société civile immobilière de construction-vente.
Numéro SIREN 326553823 (326 553 823).
Le siège de la société est situé à CHE DE CHABASSE 04000 DIGNE-LES-BAINS
avec un total de 1 établissements actifs.
La société est spécialisée dans le secteur d'activité des Supports juridiques de programmes.
Depuis la création de la société SCI DIORANE, nous avons enregistré 3 changements.
Entreprise
État
Actif
Dénomination
SCI DIORANE
Numéro SIREN
326553823 (326 553 823)
Numéro SIRET
32655382300013 (326 553 823 00013) - siège de l'entreprise
Date d'immatriculation
28/12/1982 (il y a 41 ans)
Forme juridique:
Société civile immobilière de construction-vente
Catégorie d'entreprise
PME - petite ou moyenne entreprise
(mis à jour 2017)
Tranche d'effectif
Unité non employeuse
Activité
Supports juridiques de programmes
(NAFRev2 - 41.10D)
Économie sociale
l'entreprise n'appartient pas au champ de l'économie sociale et solidaire
Caractère employeur
Non employeuse
Adresse
CHE DE CHABASSE
04000 DIGNE-LES-BAINS
Établissement(s)
État
Actif
Numéro SIRET
32655382300013 (326 553 823 00013)
Nature de l'établissement
Siege
Date de création
28/12/1982
Dernière mise à jour
01/01/2008
Activité
Supports juridiques de programmes (NAFRev2 - 41.10D)
N° d'établissement (NIC)
00013
Tranche d'effectif
Unité non employeuse
Adresse
CHE DE CHABASSE
04000 DIGNE-LES-BAINS
Code géographique
04070
Changements enregistrés
1982
28
déc
Entreprise
+ Entreprise créée
Établissement 32655382300013
+ Établissement créé
1988
25
déc
Entreprise
Changement de l'activité principale de l'unité légale:
-
Aucun
+
Supports juridiques de programme ()
Établissement 32655382300013
Changement activité principale etablissement:
-
Aucun
+
Supports juridiques de programme (70.1D)
2008
1
janv
Entreprise
Changement de l'activité principale de l'unité légale:
-
Supports juridiques de programme (NAF1993)
+
Supports juridiques de programmes (NAF1993)
Établissement 32655382300013
Changement activité principale etablissement: